Вакансия ID VAC_35189
статус:
ОТМЕНЕНА
Организация:
Федеральное государственное казённое военное образовательное учреждение высшего образования Военный учебно-научный центр сухопутных войск "Общевойсковая академия Вооруженных Сил Российской Федерации"
Должность:
Старший научный сотрудник
НИЛ-2 ВИ (ИВ)
Отрасль науки:
Прочие технологии
Деятельность:
Передача опыта научной деятельности и воспроизводство научных кадров
в области военно-научного сопровождения и участия в разработке образцов средств инженерного вооружения
Трудовые функции:
Организация повышения научной квалификации молодых ученых путем их вовлечения в исследования, проводимые ведущими российскими и (или) международными научными коллективами
Трудовая деятельность:
Привлекать магистрантов и аспирантов к решению отдельных задач исследования, в том числе по инициативным тематикам
Регион:
Москва
Населенный пункт:
Россия, Москва
Требования к кандидату
Вакансия для выпускников вузов:
Нет
Результаты интеллектуальной деятельности:
публикации
монографии
монографии
Использование результов интеллектуальной деятельности:
лицензирование
Ученая степень и звание:
доктор военных наук
кандидат военных наук
кандидат военных наук
Опыт развития организации:
подготовка магистров и аспирантов
Прочие требования к кандидату:
Заработная плата
ДОЛЖНОСТНОЙ ОКЛАД:
11 586 руб.
СТАВКА:
0,5
СТИМУЛИРУЮЩИЕ ВЫПЛАТЫ:
0 руб.
ЕЖЕМЕСЯЧНОЕ ПРЕМИРОВАНИЕ:
0 руб.
ГОДОВОЕ ПРЕМИРОВАНИЕ:
0 руб.
УСЛОВИЯ ПРЕМИРОВАНИЯ:
Социальный пакет
ЖИЛЬЕ:
ПРОЕЗД:
ОТДЫХ:
ежегодный основной отпуск
ежегодный дополнительный отпуск
ежегодный дополнительный отпуск
МЕДИЦИНСКОЕ ОБСЛУЖИВАНИЕ И СТРАХОВАНИЕ ОТ НЕСЧАСТНЫХ СЛУЧАЕВ НА ПРОИЗВОДСТВЕ:
СТАЖИРОВКИ И ПОВЫШЕНИЕ КВАЛИФИКАЦИИ:
ДРУГОЕ:
Контактная информация
ФАМИЛИЯ, ИМЯ, ОТЧЕСТВО:
Сафронова Елена Витальевна
E-MAIL:
ovavcrf@mil.ru
ТЕЛЕФОН:
8-499-795-90-29
ДОПОЛНИТЕЛЬНО:
Документы представить по адресу, г.Москва проезд Девичьего поля д.4 наличие допуска к сведениям составляющим государственную тайну обязательно
Обоснование отмены
Текст обоснования:
не соответствие кандидата профилю
